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泽攸窜贰惭20扫描显微镜核心用材与工艺

产物介绍

泽攸窜贰惭20扫描显微镜核心用材与工艺
台式扫描电子显微镜的长期性能稳定,依赖于定期维护。窜贰惭20的维护重点集中在真空系统、探测器及环境控制

产物型号:
更新时间:2025-10-23
厂商性质:代理商
访问量:52
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泽攸窜贰惭20扫描显微镜核心用材与工艺

泽攸?ZEM20 以紧凑结构、可靠真空系统、灵活的自动化功能以及完善的维护体系,能够满足材料科学、能源、生命科学等多领域的微观表征需求。通过上述六篇技术文章,您可以快速了解其硬件构成、成像性能、材料工艺、操作要点、环境适配以及典型应用场景,为实验室选型与日常使用提供系统参考。

  • 真空腔:6061?T6 铝合金经硬质阳极氧化(厚度 35?µm),显微硬度 380?HV,放气率 4.5?×?10???Pa·L·s??·cm??。

  • 磁屏蔽筒:1J79 坡莫合金,壁厚 2?mm,μr?>?40?000,磁场抑制至 <?3?nT,像散畸变 <?0.2?%。

  • 电缆:50?kV 级硅胶绝缘线,外覆不锈钢网屏蔽,弯曲半径 ≥?40?mm,耐 10? 次弯曲。

  • 信号线:PTFE 隔离 Litz 线,40?kHz 扫描时交流电阻下降 18?%。

  • 密封件:Viton A O?ring,放气率 1?×?10???Pa·L·s??·cm??,寿命 ≥?2?年。

材料参数概览

组件材料表面处理放气率 (Pa·L·s??·cm??)
真空腔6061?T6 铝硬质阳极氧化4.5?×?10??
镜筒SUS304 不锈钢电抛光2?×?10??
屏蔽筒1J79 坡莫合金钝化1?×?10??
密封圈Viton A1?×?10??

泽攸窜贰惭20扫描显微镜核心用材与工艺




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