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Sensofar S neox:从纳米到毫米全尺度覆盖

产物介绍

Sensofar S neox:从纳米到毫米全尺度覆盖
当集成电路线宽逼近物理极限,当仿生材料需要解析微米级孔隙结构,传统测量设备因技术单一性逐渐暴露局限。Sensofar S neox通过“四维协同测量矩阵"技术,重新定义了复杂表面形貌的测量逻辑。

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更新时间:2025-10-22
厂商性质:代理商
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Sensofar S neox:从纳米到毫米全尺度覆盖

当集成电路线宽逼近物理极限,当仿生材料需要解析微米级孔隙结构,传统测量设备因技术单一性逐渐暴露局限。Sensofar S neox通过“四维协同测量矩阵"技术,重新定义了复杂表面形貌的测量逻辑。

四维测量矩阵:技术适配场景化

S neox的四大技术模式对应不同测量需求:动态共焦扫描模式专为陡坡/多孔材料设计,如骨植入物的86°倾角表面;白光干涉场重建模式适用于亚纳米级超光滑表面,如光学镜片的平整度检测;相移干涉解析模式可实现0.1nm纵向分辨率,用于薄膜厚度测量;AI智能景深融合模式则能单次扫描深度达8mm,覆盖毫米级粗糙度样品。在特斯拉超级工厂,S neox每分钟完成30个电池极片的涂层厚度检测,其三波长干涉技术同步获取表面形貌、膜厚分布与材料折射率数据,效率较传统设备提升20倍。

硬件设计:耐用性与灵活性平衡

设备主体采用刚性结构与高导热材料,减少环境温度波动对测量的影响。其尝贰顿光源系统支持波长灵活选择,例如在半导体检测中选用532苍尘绿光可提高高反射率焊球的对比度,而在生物样本测量中切换至635苍尘红光则能减少光毒性。物镜组包含长焦镜头与水镜选项,前者适用于深孔结构测量,后者则满足液体环境下的原位观测需求。

参数详解与型号对比

基础款S neox的Z轴测量范围为0.1nm-34mm,XY平台重复定位精度达±0.1μm;五轴款在此基础上增加高温原位测量舱(最高800℃),适用于金属3D打印件的热应力分析。两款型号均配备SensoAI云智库,内置200+种材料数据库,用户上传样品图像后,系统可智能推荐测量模式组合与镜头参数配置方案。例如,在检测碳化硅基晶圆时,云智库会建议优先使用白光干涉模式,并自动调整照明亮度至80%以避免过曝。

典型应用案例

哈佛大学材料实验室曾利用S neox解析量子点薄膜的原子级堆叠结构。研究人员通过相移干涉模式发现,传统SEM观察会导致量子点迁移,而S neox的非接触式测量则完整保留了薄膜的初始形貌。操作流程中,用户需先在SensoSCAN软件中定义扫描区域为10mm×10mm,选择20×干涉物镜,再启用AI焦点预测算法自动规划路径,最终生成的三维模型可清晰显示单层量子点的0.3nm厚度变化。


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