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S neox:纳米材料研发 3D 分析助手

产物介绍

S neox:纳米材料研发 3D 分析助手
在纳米材料研发、薄膜技术研究、生物医用材料设计等科研领域,对材料表面微观 3D 结构的精准分析是揭示材料性能机制的关键,Sensofar 3D 共聚焦白光干涉仪 S neox 凭借高分辨率测量能力与灵活的实验适配性,成为科研团队探索纳米尺度结构的实用工具,为材料研发提供从形貌观察到数据量化的全流程支持。

产物型号:
更新时间:2025-09-01
厂商性质:代理商
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S neox:纳米材料研发 3D 分析助手

在纳米材料研发、薄膜技术研究、生物医用材料设计等科研领域,对材料表面微观 3D 结构的精准分析是揭示材料性能机制的关键,Sensofar 3D 共聚焦白光干涉仪 S neox 凭借高分辨率测量能力与灵活的实验适配性,成为科研团队探索纳米尺度结构的实用工具,为材料研发提供从形貌观察到数据量化的全流程支持。
一、产物细节:科研级设计适配实验需求
S neox(3D 共聚焦白光干涉仪)在结构设计上充分考虑科研场景的多样性,机身采用模块化组装方式,核心光学模块、样品台模块与控制模块可独立拆卸,便于根据实验需求进行定制化改造,例如加装高温样品台、低温样品台或电学测试附件,实现原位环境下的 3D 轮廓测量。机身尺寸与基础款保持一致(600mm×500mm×750mm),重量 70kg,可轻松融入高校实验室、科研院所的实验平台,无需专门改造场地。
光学系统的防护等级提升至 IP54,能有效抵御实验室常见的粉尘与少量溅水,适合长期处于开放实验环境中的使用需求。镜头接口除兼容基础款的 6 种倍率物镜外,还支持适配特种物镜(如长工作距离物镜、偏光物镜),长工作距离物镜(工作距离 10mm)可用于测量带有复杂附件的样品(如生长中的薄膜样品),偏光物镜则能结合偏光技术分析材料的光学各向异性,拓展实验研究维度。
样品台在基础款电动控制的基础上,新增 “手动微调" 模式,当科研人员需要对特定微观区域进行精准定位时,可通过旋钮进行微米级微调,搭配样品台自带的刻度标尺(精度 0.01mm),能快速记录样品测量位置,便于后续重复实验验证。操作界面除 15.6 英寸触控屏外,还支持外接专业绘图板,方便科研人员在测量图像上标注特征区域,直接在软件中完成数据分析标注,减少后期处理工作量。
二、产物性能:高分辨率支撑纳米尺度分析
S neox(3D 共聚焦白光干涉仪)的共聚焦模块经过科研级优化,采用高稳定性 LED 白光光源,光谱输出波动范围控制在 ±2% 以内,确保长期实验中光源强度的一致性,避免因光源波动导致的测量数据偏差。搭配背照式 CMOS 图像传感器(200 万像素,1920×1080),传感器的量子效率提升至 70%(450nm~650nm 波段),能捕捉到更微弱的反射光信号,适合测量低反射率的纳米材料(如二氧化硅薄膜、碳纳米管薄膜),横向分辨率保持 0.12μm(100x 物镜),可清晰呈现纳米颗粒的团聚状态、纳米线的直径分布。
白光干涉模块的算法进行了科研级升级,新增 “动态干涉条纹分析" 功能,可实时记录干涉条纹的变化过程,结合软件的相位解包裹算法,纵向测量分辨率进一步优化至 0.05nm,测量范围覆盖 0.5苍尘~10尘尘,既能精准测量纳米级薄膜的厚度(如 10nm 厚度的金属薄膜),也能分析毫米级台阶的高度差(如微流控芯片的通道深度)。在纳米材料研究中,可通过该模块量化分析纳米颗粒的粒径分布(误差 ±2%)、纳米薄膜的表面起伏度(PV 值,峰值与谷值之差),为材料性能与微观结构的关联研究提供量化数据。
设备还具备 “时间序列测量" 功能,科研人员可设置固定时间间隔(最小 10 秒 / 次),对同一区域进行连续 3D 轮廓测量,记录材料在外界刺激(如温度变化、光照照射)下的结构动态变化,例如观察纳米涂层在加热过程中的表面收缩情况、水凝胶材料在吸水过程中的膨胀速率,为材料动态性能研究提供直观的 3D 结构演变数据。
叁、用材与参数:科研级部件保障数据可靠性
核心光学部件选用科研级材料,光学镜头采用超低色散氟冕玻璃,相较于基础款的低色散玻璃,氟冕玻璃能进一步减少不同波长光线的色散差异,在全光谱范围(450nm~650nm)内保持一致的成像分辨率,避免因波长差异导致的测量误差,尤其适合对多波长光学特性敏感的材料研究(如光子晶体材料)。镜头镀膜采用离子辅助镀膜技术,膜层附着力提升 30%,长期使用后不易出现膜层脱落,保障光学性能稳定性。
样品台导轨采用陶瓷材料,陶瓷导轨的热膨胀系数仅为 1.5×10??/℃,远低于金属导轨,在温度波动较大的实验室环境中(如昼夜温差 5℃),仍能保持 ±0.05μm 的移动精度,避免温度变化导致的样品定位偏差。测量软件内置 “数据溯源" 功能,每次测量会自动记录设备状态参数(如光源强度、物镜倍率、环境温度),并与测量数据绑定保存,便于科研人员后期追溯实验条件,确保实验结果的可重复性与可验证性。
以下为 S neox(3D 共聚焦白光干涉仪)的科研场景核心参数表:
参数类别
科研场景适配参数
测量技术
共聚焦显微镜 + 白光干涉技术(科研级算法)
横向分辨率
0.12μm(100x 物镜);0.2μm(50x 物镜)
纵向分辨率
0.05苍尘(白光干涉模式)
测量范围(Z 轴)
0.5苍尘~10尘尘
样品台功能
X 轴 100mm、Y 轴 100mm、Z 轴 50mm(电动 + 手动微调);支持外接原位附件
物镜兼容性
2.5x~100x 标准物镜;长工作距离 / 偏光物镜(可选)
光源稳定性
光谱输出波动 ±2%(24 小时连续运行)
图像传感器
200 万像素背照式 CMOS(量子效率 70%)
特殊功能
时间序列测量(10 秒 / 次~1 小时 / 次)、动态干涉条纹分析
数据输出格式
.蝉蹿肠、.蝉迟濒、.尘补迟、.肠蝉惫(支持原始数据导出)
电源要求
AC 220V±10%,50/60Hz,300W(支持稳压电源接入)
四、用途与使用说明:覆盖多领域科研需求
S neox(3D 共聚焦白光干涉仪)在科研领域的用途广泛,在纳米材料研发中,可用于碳纳米管薄膜的表面粗糙度测量(Ra 值)、量子点薄膜的厚度均匀性分析,判断制备工艺(如旋涂速度、退火温度)对材料微观结构的影响;在薄膜技术研究中,能监测薄膜生长过程中的厚度变化(如原子层沉积薄膜的逐层生长),计算薄膜生长速率,优化生长参数;在生物医用材料设计中,可分析支架材料的孔隙结构(孔径大小、孔隙率),评估材料与细胞的相容性;在能源材料研究中,能观察电池电极材料的表面形貌变化(如充放电循环后的电极膨胀),揭示电池性能衰减机制。
科研场景下的使用说明如下:首先根据研究目标确定测量方案,若进行原位高温测量,需提前安装高温样品台并连接温度控制器,将温度校准至实验所需范围(如 200℃),保温 30 分钟确保温度稳定;然后制备样品,纳米材料样品需进行清洁处理(如超声清洗去除表面杂质),薄膜样品需固定在专用载玻片上,确保样品表面平整无褶皱;打开设备电源与科研版测量软件,软件会自动检测外接附件状态(如高温样品台是否连接正常),确认无误后进入参数设置界面,选择 “科研模式",设置物镜倍率(如 50x 用于纳米颗粒观察)、测量区域(如 200μm×200μm)、测量模式(共聚焦 + 白光干涉同步采集);点击 “自动对焦" 后,软件会自动扫描样品表面,生成对焦清晰度曲线,科研人员可根据曲线选择优良对焦平面,确保测量区域的清晰度;启动测量后,设备会同步采集 2D 共聚焦图像与 3D 干涉数据,时间序列测量需额外设置测量次数与间隔时间;测量完成后,软件自动生成 3D 轮廓模型、表面参数报告(Ra、Rq、PV)与数据原始文件,科研人员可直接导出原始数据用于后续建模分析(如导入有限元分析软件),也可在软件中进行数据统计(如纳米颗粒粒径分布直方图)。
使用过程中需注意,原位实验前需进行 3 次空白实验,验证附件对测量精度的影响;测量低反射率样品时,需在软件中开启 “弱信号增强" 功能,提升图像信噪比;设备每次更换实验环境后,需进行 1 小时预热,待光学系统稳定后再开始测量,确保数据一致性。
五、型号特点:科研适配性突出
作为 Sensofar 针对科研领域推出的 3D 共聚焦白光干涉仪,S neox 的核心优势在于科研级的性能稳定性与实验适配性。其高分辨率测量能力能满足纳米尺度的精细分析需求,时间序列测量、原位附件兼容等功能则为动态实验、环境敏感实验提供可能;原始数据导出功能支持与各类科研分析软件兼容,便于科研人员进行深度数据挖掘,为论文发表提供可靠的数据支撑。
同时,设备的操作门槛保持适中,科研团队中的研究生经过 1~2 次培训即可独立完成基础测量,资深研究人员则可通过定制化改造拓展实验维度,兼顾了团队不同人员的使用需求。无论是探索纳米材料的微观结构机制,还是优化功能材料的制备工艺,S neox 都能以精准的 3D 分析能力,成为科研团队推进研究进展的实用助手。

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