奥林巴斯 OLS5100 显微镜：材料分析利器
在材料分析的微观世界里，奥林巴斯 OLS5100 激光共聚焦显微镜宛如一位精准的探索者，为科研人员和工程师们开启了深入研究的大门。
OLS5100 专为失效分析和材料工程研究而设计。其采用反射型共聚焦激光扫描原理，配备 405nm 激光光源。短波长的 405nm 激光相较于传统的可见光（峰值 550nm），赋予了显微镜更优秀的横向分辨率，能够清晰捕捉到样品表面极细微的纹理和缺陷 。在光学系统方面，它拥有彩色成像和激光共聚焦两套系统。彩色成像光学系统利用白光 LED 光源和 CMOS 图像传感器获取信息，呈现出样品的彩色外观；激光共聚焦光学系统则借助 405nm 激光二极管光源和高灵敏度光电倍增管，获得样品的 3D 轮廓信息和高清图像，仅接收通过圆形针孔聚焦的光线，有效消除模糊，实现比普通显微镜更高的图像对比度 。
这款显微镜在性能上表现。它能够轻松实现亚微米级 3D 观察与测量，可对纳米范围内的台阶进行细致观察，精确测量亚微米级的高度差。在表面粗糙度测量方面，符合 ISO25178 标准，无论是线粗糙度还是面粗糙度都能精准测定。而且，它采用非接触、无损的测量方式，操作快捷，只需将样品放置在载物台上，即可开启测量之旅，避免了传统接触式测量对样品可能造成的损坏 。
从参数来看，OLS5100 的综合倍率在 54x ～ 17280x 之间，视场范围为 16 µm ～ 5,120 µm。其测量原理基于先进的光学系统，在多种型号中，如 OLS5100-SAF、OLS5100-SMF 等，都展现出了稳定而出色的性能。在材料分析中，它可用于金属材料的微观结构观察，分析其晶粒大小、晶界情况，帮助研究人员了解材料的性能与加工工艺之间的关系；在半导体材料研究里，能对芯片表面的微电路结构进行测量和分析，助力提升芯片制造的精度和质量 。
在使用时，操作人员只需将样品妥善放置在载物台上，按下 “开始" 按钮，显微镜便会自动进行后续操作。智能扫描 II 功能让新手和经验丰富的用户都能快速上手，轻松获取数据。PEAK 算法用于构建 3D 数据，不仅可获得从低倍率到高倍率的高精度数据，还能大幅缩短数据采集时间 。
总的来说，奥林巴斯 OLS5100 激光共聚焦显微镜以其先进的技术、出色的性能和便捷的操作，在材料分析领域发挥着重要作用，为科研和生产提供了有力支持。
奥林巴斯 OLS5100 显微镜：材料分析利器
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