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泽攸 ZEM15:小型科研团队显微分析工具

产物介绍

泽攸 ZEM15:小型科研团队显微分析工具
对于经费有限、空间紧张的小型科研团队或初创公司,泽攸台式扫描电子显微镜 ZEM15 以其高性价比与易维护性,成为微观分析工作的实用工具,助力完成基础科研与产物研发中的显微观察任务。

产物型号:
更新时间:2025-08-25
厂商性质:代理商
访问量:28
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泽攸 ZEM15:小型科研团队显微分析工具


对于经费有限、空间紧张的小型科研团队或初创公司,泽攸台式扫描电子显微镜 ZEM15 以其高性价比与易维护性,成为微观分析工作的实用工具,助力完成基础科研与产物研发中的显微观察任务。
产物细节
ZEM15 的机身设计注重实用性,无复杂的附加功能,核心操作集中在触控屏与少数实体按键上,科研人员无需专业操作资质即可快速上手。样品室配备可拆卸样品台,支持多种规格样品固定(如圆形样品座、薄片样品夹),适配金属粉末、半导体芯片、生物切片等不同类型样品。设备内置小型真空机组,开机后自动完成抽真空流程,无需外接真空管道,简化实验室布局;真空系统设有保护功能,若样品室密封不良,会自动停止抽真空并报警,避免设备损坏。机身背部设有散热风扇与防尘滤网,长时间连续工作(如 4 - 6 小时)也能保持机身温度稳定,减少因过热导致的故障。此外,设备支持远程控制功能,可通过电脑软件连接设备,实现图像采集与参数调节,方便科研人员在通风橱外操作挥发性样品。
产物性能
ZEM15 的性能可满足小型科研团队的基础显微分析需求。其二次电子图像分辨率能清晰呈现纳米级别的表面细节,如观察纳米涂层的颗粒分布、半导体材料的表面缺陷等;背散射电子图像可区分样品的成分差异,辅助分析材料的元素分布(需配合能谱仪时,设备预留能谱仪接口,可后期升级)。加速电压调节范围宽,低电压(0.5 - 5kV)适合观察易损伤样品(如生物组织、高分子材料),高电压(10 - 15kV)适合高分辨率观察金属、陶瓷等硬质材料。放大倍数覆盖从宏观到微观的观察需求,低倍观察可快速定位样品特征区域,高倍观察能深入分析细节结构,且图像畸变较小,数据可靠性较好。此外,设备具备图像拼接功能,可将多个局部图像拼接成大面积全景图像,适合分析样品的整体形貌与分布规律。
用材讲究
为适应科研场景的长期使用需求,ZEM15 的样品室门密封采用耐老化的硅橡胶密封圈,确保长期使用后的真空密封性;样品台采用耐腐蚀的钛合金材质,减少样品与样品台的化学反应,尤其适合观察金属腐蚀样品。电子光学系统的透镜组件采用无氧铜材质,具备良好的导热性与导电性,减少电子束偏转误差;探测器窗口采用超薄氮化硅膜,提高信号采集效率,保障图像质量。内部电路选用工业级电子元件,在电压波动(±10%)环境下仍能稳定工作,减少因供电不稳定导致的设备故障;真空机组的泵体采用耐磨材料,使用寿命可达 5000 小时以上,降低维护成本。
参数详情
参数项
具体数值
分辨率
二次电子图像:3.0苍尘(30办痴),背散射电子图像:5.0苍尘(30办痴)
加速电压
0.5 - 15kV,步长 0.1kV
放大倍数
20 - 100000 倍,连续可调
样品室真空度
高真空模式:≤5×10??Pa,低真空模式:10 - 200Pa(可选)
样品台类型
可拆卸式,支持 X/Y 轴手动微调,行程 10mm×10mm
电子枪寿命
钨灯丝:100 - 200 小时(正常使用)
图像功能
支持实时扫描、静态拍照、图像拼接、亮度 / 对比度调节
扩展接口
预留能谱仪(贰顿厂)接口、二次电子探测器升级接口
数据存储
本地可存储 1000 组图像,支持 USB 导出
电源要求
220痴&辫濒耻蝉尘苍;10%,50贬锄,功率≤1000奥
工作环境
温度 18 - 28℃,相对湿度 25% - 65%(无冷凝)
广泛用途
在新材料研发团队中,ZEM15 可用于观察纳米复合材料的颗粒分散情况、涂层的表面均匀性,为材料配方优化提供微观数据;在小型电子公司的研发中,能检测芯片封装的引线键合质量、印刷电路板的线路缺陷,辅助改进生产工艺;在生物医学初创团队中,可观察医用支架的表面形貌、细胞在材料表面的黏附状态,为医疗器械研发提供参考;此外,在文物修复研究中,还能分析文物表面的颜料层结构、腐蚀产物形态,助力制定科学的修复方案。
使用说明
安装时,需确保实验室地面平整,工作台承重能力≥80kg,设备周围预留至少 30cm 空间用于散热与操作。开机前,检查设备电源、数据线连接是否正常,清理样品室内部灰尘,确保样品室门密封良好。根据样品类型准备样品:导电性样品(如金属、半导体)可直接固定;绝缘样品需用喷金仪喷涂 5 - 10nm 厚的金属层(如金、铂),防止电子积累导致图像失真;生物样品需经过冷冻干燥或临界点干燥处理,避免真空环境下样品变形。将样品固定在样品台上,放入样品室,关闭样品室门,在触控屏上启动抽真空程序,待真空度达到设定值(高真空模式适用于高分辨率观察,低真空模式适用于易挥发样品)。选择探测器类型(二次电子探测器用于表面形貌观察,背散射电子探测器用于成分差异分析),设置加速电压与放大倍数,启动扫描后调节聚焦旋钮,直至图像清晰;若需高倍观察,可逐步提高放大倍数,同时微调聚焦与 astigmatism(像散校正)。观察过程中,可通过触控屏保存图像,或通过电脑软件实时记录数据。实验结束后,先停止扫描,启动样品室放气程序,待气压恢复常压后取出样品。关闭设备电源前,需等待真空机组停止工作(约 5 分钟)。日常维护中,每周清洁一次防尘滤网,每月检查样品室密封圈是否老化,每季度更换一次真空系统的滤芯;若发现图像模糊、真空度无法达标等问题,及时联系专业人员检修,避免自行拆解设备。

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技术参数




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