sensofar 3D光学轮廓仪在半导体行业的应用-九幺视频

sensofar 3D光学轮廓仪在半导体行业的应用

产物介绍

sensofar 3D光学轮廓仪在半导体行业的应用：Sensofar S neox以高分辨率、非接触三维测量能力，精准表征晶圆平整度、TSV通孔及MEMS器件等关键参数，为半导体工艺开发与质量控制提供可靠数据支撑。

产物型号：

更新时间：2025-11-24

厂商性质：代理商

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sensofar 3D光学轮廓仪在半导体行业的应用

半导体制造工艺对检测技术提出了要求，随着器件尺寸的不断缩小和三维结构的广泛应用，传统检测方法面临新的挑战。Sensofar S neox 3D光学轮廓仪以其非接触、高分辨率的特性，在半导体行业多个环节发挥着重要作用。

在晶圆制备阶段，表面平整度和粗糙度是影响后续工艺质量的关键参数。S neox的大面积扫描功能可以快速评估整个晶圆的形貌特征，检测微小的翘曲或凹陷。其高垂直分辨率能够准确测量纳米级的表面粗糙度，为工艺优化提供精确的数据支持。例如，在化学机械抛光工艺后，通过三维形貌测量可以评估抛光效果，及时发现异常情况。

对于三维集成电路中的硅通孔结构，S neox提供了有效的检测方案。通过选择合适的工作距离和数值孔径的物镜，结合专门开发的测量算法，可以获得通孔深度和侧壁形貌的可靠数据。这种检测能力对于保证互联质量具有重要意义，有助于提高产物良率。

在微机电系统制造领域，S neox的应用同样广泛。仪器能够精确测量微结构的尺寸和形貌，评估运动部件的静态特性。通过特殊的测量模式，还可以观察器件在驱动状态下的动态响应。这些检测数据为器件设计和工艺改进提供了重要参考。

此外，仪器在半导体材料表征方面也展现出价值。例如，在第三代半导体材料研究中，可以通过表面形貌分析来评估外延生长质量；在封装工艺中，能够检测焊球高度和共面性。这些应用体现了S neox在半导体全产业链中的适用性。

sensofar 3D光学轮廓仪在半导体行业的应用

上一个：sensofar 3D光学轮廓仪的自动化测量方案