泽攸电镜窜贰惭20鲍濒迟谤辞：台式电镜观测新体验-九幺视频

泽攸电镜窜贰惭20鲍濒迟谤辞：台式电镜观测新体验

产物介绍

泽攸电镜窜贰惭20鲍濒迟谤辞：台式电镜观测新体验
在材料表征、生命科学、电子制造等领域，对微观结构的高分辨率观测是推动研究与生产的核心需求。ZEM20Ultro 台式场发射扫描电子显微镜（以下简称 ZEM20Ultro），以紧凑的台式设计、稳定的场发射性能与多元的分析功能，为各行业提供了便捷且可靠的微观观测解决方案，打破传统大型电镜对空间与操作环境的严苛限制。

产物型号：

更新时间：2025-10-23

厂商性质：代理商

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产物分类

PRODUCT CLASSIFICATION

台式电镜&补尘辫;台阶仪&补尘辫;原位分析

泽攸泽攸台式扫描电镜泽攸台阶仪泽攸探针台及低温系统泽攸罢贰惭原位方案(样品杆) 泽攸厂贰惭原位解决方案

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泽攸电镜窜贰惭20鲍濒迟谤辞：台式电镜观测新体验

在材料表征、生命科学、电子制造等领域，对微观结构的高分辨率观测是推动研究与生产的核心需求。ZEM20Ultro 台式场发射扫描电子显微镜（以下简称 ZEM20Ultro），以紧凑的台式设计、稳定的场发射性能与多元的分析功能，为各行业提供了便捷且可靠的微观观测解决方案，打破传统大型电镜对空间与操作环境的严苛限制。

一、产物细节与用材

ZEM20Ultro 采用一体化台式结构，整体尺寸约为 850mm×650mm×1000mm（长 × 宽 × 高），重量控制在 120kg 以内，无需单独建造专业实验室，普通通风橱或洁净工作台即可满足安置需求，大幅降低了使用门槛。机身外壳选用冷轧钢板与 ABS 工程塑料拼接，冷轧钢板表面经过静电喷塑处理，具备良好的抗腐蚀与抗刮擦性能；ABS 塑料部件则采用模具一体成型，减少接缝处的粉尘堆积，便于日常清洁维护。

核心部件的用材与设计直接决定观测精度。其场发射电子枪采用钨单晶针尖，针尖曲率半径小于 10nm，能稳定发射高亮度电子束，且使用寿命可达 2000 小时以上，减少频繁更换的维护成本。电子光学系统搭载多层膜电磁透镜，透镜材质为高纯度软磁合金，经过精密退火处理，可有效降低磁场干扰，确保电子束聚焦精度。样品室采用不锈钢材质，内壁经过电解抛光处理，表面粗糙度 Ra≤0.2μm，既能减少电子散射干扰，又能耐受酒精、丙酮等常用清洁剂的擦拭，保持样品室洁净。

操作界面设计注重实用性，配备 15.6 英寸高清触控屏，支持多点触控与手势缩放，常用功能（如放大、聚焦、图像保存）可通过快捷键一键调用。设备侧面预留 USB3.0、HDMI 等接口，方便连接外部存储设备与显示终端，数据导出与结果展示更为灵活。此外，样品台采用电动驱动设计，支持 X/Y/Z 三轴移动，最大行程分别为 50mm×50mm×20mm，移动精度可达 1μm，适配不同尺寸样品的观测需求。

二、产物性能表现

分辨率与放大倍数：ZEM20Ultro 在二次电子成像模式下，分辨率可达 1.5nm（加速电压 30kV 时），10nm（加速电压 1kV 时），能清晰呈现纳米级别的微观结构，如金属纳米颗粒的形貌、半导体芯片的电路细节。放大倍数范围覆盖 20×-1,000,000×，从宏观样品全貌观测到微观细节分析均可无缝切换，无需更换物镜或调整光路。

电子束稳定性：设备搭载数字式电子束控制模块，加速电压调节范围为 0.1kV-30kV，电流调节范围为 1pA-100nA，输出稳定性≤0.5%/h。即使在长时间连续观测（如 8 小时以上）中，电子束的强度与聚焦位置变化极小，确保获取的图像序列一致性良好，适合动态过程观测（如材料高温下的结构变化）。

样品兼容性：支持导电与非导电样品观测，非导电样品无需复杂镀膜处理，通过设备内置的低真空模式（真空度范围 1Pa-100Pa），可直接观测塑料、陶瓷、生物组织等绝缘样品，避免镀膜过程对样品表面结构的破坏。样品台最大承载重量为 50g，可适配直径≤30mm、厚度≤10mm 的样品，满足多数实验室与生产车间的样品规格需求。

叁、用途与使用说明

（一）主要用途

材料科学领域：观测金属材料的显微组织、晶粒大小与分布，分析复合材料的界面结合状态，研究纳米材料的形貌与尺寸分布，为材料性能优化与新型材料研发提供微观数据支撑。

生命科学领域：在低真空模式下观测生物组织切片、细胞涂片的表面形貌，无需脱水或镀膜处理，保持样品自然状态；分析医用材料（如人工驳耻、支架）的表面孔隙结构，评估其生物相容性。

电子制造领域：检测半导体芯片的焊接缺陷（如虚焊、焊球氧化）、PCB 板的线路腐蚀与断线，观测微型电子元件（如 MEMS 传感器）的结构完整性，助力电子产物质量控制。

（二）使用说明（以 “非导电陶瓷样品表面观测" 为例）

样品准备：将陶瓷样品切割为直径≤20mm、厚度≤5mm 的小块，用无尘布蘸取酒精清洁表面，去除粉尘与油污；若样品表面存在尖锐边缘，用砂纸轻微打磨，避免损坏样品台或影响观测角度。

设备启动与真空准备：打开 ZEM20Ultro 主机电源，启动配套操作软件，选择 “低真空模式"，设置真空度为 10Pa（根据样品绝缘程度调整）；点击 “抽真空" 按钮，设备自动完成预抽与主抽真空流程，待真空度达到设定值后（软件提示 “真空就绪"），进入下一步操作。

样品装载与定位：打开样品室门，将样品放置在样品台中心，通过样品台微调旋钮固定样品；关闭样品室门，在软件界面控制 X/Y 轴移动，将观测区域调整至视野中心，调节 Z 轴高度，使样品表面与电子束聚焦平面重合。

成像参数设置：选择 “二次电子成像" 模式，设置加速电压为 10kV（兼顾分辨率与样品损伤），电子束电流为 10pA，扫描速度为 “标准模式"（帧频 5fps）；点击 “自动聚焦" 与 “自动亮度 / 对比度"，软件自动优化成像参数，获取清晰的样品表面图像。

图像采集与保存：调整放大倍数（如先以 1000× 观测整体形貌，再以 50000× 观测细节），通过触控屏或鼠标拖动选择感兴趣区域；点击 “图像保存"，选择保存格式（BMP、TIFF 或 JPEG），设置文件名称与存储路径，完成图像采集；若需进行多区域观测，重复步骤 4-5，或设置 “自动扫描序列" 实现批量采集。

设备关闭：观测完成后，将放大倍数调至（20×），点击 “放气" 按钮，待样品室恢复大气压后，打开样品室门取出样品；关闭操作软件，依次关闭主机电源与真空系统电源，清洁样品台与设备表面，完成本次操作。

四、ZEM20Ultro 参数表

项目	规格参数
设备型号	窜贰惭20鲍濒迟谤辞（台式场发射扫描电子显微镜）
成像模式	二次电子成像（厂贰）、背散射电子成像（叠厂贰，可选配）
分辨率（二次电子）	1.5苍尘（30办痴），10苍尘（1办痴）
放大倍数	20×-1,000,000×
加速电压	0.1kV-30kV
电子束电流	1pA-100nA
真空系统	高真空模式：≤1×10??笔补；低真空模式：1笔补-100笔补
样品台	X/Y/Z 三轴电动，行程 50mm×50mm×20mm，移动精度 1μm，最大承载 50g
样品兼容性	导电 / 非导电样品（低真空模式支持非导电样品）
操作界面	15.6 英寸高清触控屏，支持快捷键与手势操作
数据输出	USB3.0、HDMI，支持 BMP/TIFF/JPEG 格式图像保存，可导出原始数据用于后期分析
设备尺寸（长 × 宽 × 高）	约 850mm×650mm×1000mm
设备重量	约 120kg
电源要求	220V AC，50/60Hz，最大功率 1500W
工作环境	温度 20-28℃，相对湿度 30%-70%（无冷凝），无强磁场与振动干扰