泽攸电镜兼顾效率与细节的电镜-九幺视频

泽攸电镜兼顾效率与细节的电镜

产物介绍

泽攸电镜兼顾效率与细节的电镜
在半导体行业，EM2000 可用于芯片表面的缺陷检测，快速定位划痕、污染等问题；在材料科学领域，能观察复合材料的界面结构，分析相分布情况；在地质研究中，可识别矿物颗粒的微观形态，辅助矿物鉴定。其高效的工作能力与精准的成像效果，为各领域的研究与生产提供了有力支持。

产物型号：

更新时间：2025-10-21

厂商性质：代理商

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产物分类

PRODUCT CLASSIFICATION

台式电镜&补尘辫;台阶仪&补尘辫;原位分析

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泽攸电镜在设计上注重提升工作效率，同时保持对细节的捕捉能力。电子枪采用 LaB6 灯丝，相较于传统钨灯丝，亮度提高约 5 倍，使用寿命延长至 2000 小时以上，减少了灯丝更换频率，降低了维护成本。镜筒内部关键部件采用钼合金材料，耐高温且稳定性好，适合长时间连续工作。泽攸电镜兼顾效率与细节的电镜

加速电压范围扩展至 2kV-40kV，束流稳定度优于 1.5%/h，确保在长时间测量过程中图像质量的一致性。二次电子像分辨率在 30kV 时达到 3nm，背散射电子像分辨率 5nm，能清晰呈现纳米级别的微观结构。放大倍数覆盖 100 倍 - 2000000 倍，满足从宏观到微观的多尺度观察需求。

样品室采用大尺寸设计，直径 200mm，高度 180mm，可容纳更大尺寸的样品或特殊样品台。配备全自动样品台，移动范围 X/Y 100mm×100mm，定位精度 1μm，支持预设路径自动测量，适合批量样品的快速检测。真空系统由机械泵与涡轮分子泵组成，抽气时间短，从大气到工作真空（≤5×10??Pa）仅需 6 分钟。

操作界面采用触控屏设计，配合鼠标键盘操作，软件内置多种测量模板，如颗粒分析、线宽测量等，可自动识别并计算相关参数。使用时，通过样品加载室快速更换样品，无需破坏镜筒真空，大幅缩短了样品更换时间。

在半导体行业，可用于芯片表面的缺陷检测，快速定位划痕、污染等问题；在材料科学领域，能观察复合材料的界面结构，分析相分布情况；在地质研究中，可识别矿物颗粒的微观形态，辅助矿物鉴定。其高效的工作能力与精准的成像效果，为各领域的研究与生产提供了有力支持。泽攸电镜兼顾效率与细节的电镜

上一个：泽攸电镜微观世界的清晰窗口